ExciRay 램프
GEW의 ExciRay 램프 시스템은 유전체 장벽 방전(DBD) 램프를 사용하여 일반적으로
172nm에서 준 단색 진공 자외선 복사를 생성합니다. 이 방사선은 일반적으로 표면 무광코팅의 제조, 접착력 향상을 위한 표면 장력 수정 또는 반도 체 및 의료 산업의 표면 세척에 사용됩니다.
친숙한 NUVA2 카세트 디자인에 통합된 GEW ExciRay 램프는 최대 255cm 길이로 생산할 수 있으며 필요한 모든 질소 불활성 화 및 제어를 포함하여 특정 용도에 맞게 통 합할 수 있습니다.
또한 겔화 또는 최종 경화에 필요할 수 있는 더 넓은 GEW UV 시스템에 매끄럽게 통합되
어 GEW가 턴키 무광처리 솔루션을 제공할 수 있습니다. 프로세스. 당사의 숙련된 엔지니어는 또한 국 제 안전 표준을 엄격하게 준수합니다.
*이 브로셔는 영어로 되어 있습니다.
ExciRay 가공 프로세스
다음을 위한 장식용 라미네이트를 포함하여 다양한 용도를 위한 코팅 제조:
- 바닥재 및 가구, PVC 바닥재, 목재 패널, 플라스틱 부품 등:
- 겔화 : 부분적으로 코팅을 경화 , 점도를 높여 후속 ExciRay 마이크로폴딩 에 저항합니다. 겔화 강도를 변경하면 코팅 질감을 85° 광택 수준 및 소프트 터치 특성을 변경할 수 있습니다. 일반적으로 비활성화되지 않습니다.
- 무광: ExciRay 램프의 172nm 방사선 은 코팅의 최상층을 완전히 경화시키고 수축 으로 인해 미세 접힘이 발생하여 표면이 무광입 니다. 이 프로세스는 비활성화되어야 합니다.
- 최종 경화: 강력한 수은 또는 LED 램 프가 코팅을 완전히 경화시킵니다. 선택적으 로 불활성화할 수 있습니다. 애플리케이션 요구 사항에 따라 다릅니다.
엑시머 램프를 사용한 표면 매트화 공정에 대해 자세히 알아보겠습니다. Jennifer Heathcote의 “엑시머 UV 수지를 사용한 표면 매트화” 기사를 읽어보세요.
ExciRay의이점을확장하지않음
- 60도에서 1.2 광택 단위까지 딥 매트
- 소프트 터치 마감
- 점착력 향상을 위한 무광택제내구성 및 공정 단순화
- On/Off 즉각적인
- 사전 겔화 및 최종 경화 UV 시스템
- 손쉬운 조명을 위한 친숙한 카세 디자인 변경 및 유지 보수
- GEW의 표준 Rhino 전 원 및 제어 플랫폼에 통합
ExciRay 사양
최대 전력 | 5W/센티미터 |
피크 파장 | 172nm* |
초점에서 최대 조도 | 65mW / cm² |
최대 길이 | 255cm |
표준 횡단면 | 145mm W x 425mm H |
냉각 | N2 |
표준 최대 작동 온도 | 40°C(104°F) |
표준 최대 습도 | 비응축 |
일반적인 ExciRay 통합
ExciRay의 각 통합은 고 객의 개별 요구 사항을 충족하도록 완전히 맞춤 화되었습니다. GEW의 제품 범위는 사전 겔화 에서 제조, 최종 경화에 이르기까지 전체 공정 을 커버하기 위해 조화롭게 사용될 수 있습니다.
아래 예에서 GEW는 최종 경화를 위해 GEW 의 NUVA2 수은 아크 경화 시스템을 사용하 기 전에 예비 겔화를 위해 395nm LeoLED 를 사용하고 가공을 위해 ExciRay를 사용 니다.
- 사전 겔화: 395nm LeoLED
- 제조: 172nm ExciRay
- 최종 경화: 수은 램프 NUVA2
- 높이 조절 컨트롤 패널
- 전자동 질소 제어 캐비닛
- 조정 가능한 질소가 있는 비활성 챔버 인젝터
- 안전 라이트 커튼
*이 브로셔는 영어로 되어 있습니다.
맞춤형 컨베이어 실험실 장치
ExciRay는 품질 관리 및 R&D 애플리케이션 을 위해 GEW Custom Conveyor Lab Unit 에 통합될 수 있습니다.
GEW 램프, LED 및 엑시머의 모든 조합은질소 불활성화 여부에 관계없이 사용할 수 있습니다.
Lab Unit은 다양한 폭과 속도 범위에서 사용할 수 있습니다.
자세한 내용은 Lab Units 페이지를 참조하십시오.
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이들 제품은 엑시머(또는 엑시플렉스) 유전체 장벽 방전(DBD) 램프를 UV 광원으로 사용한다. 주로 진공 자외선(VUV) 방사선을 생성하는 데 사용되는 GEW는 광범위한 응용 분야에 적합한 다양한 변형과 폭을 제공할 수 있습니다.
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